工业超纯水设备 光伏半导体超纯水

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　　在半导体生产过程中，硼是一种P型杂质。过量会使N型硅反转，从而影响电子和空穴的浓度。因此，在超纯水工业中应充分考虑硼的去除。电子和半导体工业用超纯水标准指南(ASTM-D5127-13)要求硼离子≤ 0.05 in e1.3μg/L。如果硼离子含量能够达到较低的指标，则必然会改善半导体的性能。

　　半导体超纯水工艺中Huncotte系统选用核级树脂，可通过靶向离子交换树脂有效控制系统出水的硼离子含量。采用IPC-MS检测硼离子含量，并对硼离子流出物进行分析≤ 0.005μG/L远低于硼离子的要求≤ ASTM-D5127-13标准中E1.3中的0.05μg/L。我们相信更高质量的超纯水可以给半导体带来更好的性能，给半导体企业带来更强的优势。