根河市中小型二氧化氯发生器设备技术

根河市中小型二氧化氯发生器设备技术

二氧化氯发生器性能特点：

   强效混合消毒剂发生器消化美技术，在电材料、阳阴间距、电解面积、隔膜材料等作了反复的研究测试，精心设计而成。电解发生所产生的以二氧化lv、lv、双氧水等多种强氧化剂，具广谱的氧化和杀菌能力，能杀灭水中各种芽孢病毒。经北京市卫生防疫站对市场上五大系列十三种消毒剂使用效果的试验比较证明二氧化lv效果，五分种杀灭率*。设备阳达5-7年，电源，性能强，电解槽为钛板及聚lv乙烯白色塑料板组成，隔膜电导率高，更换方便二氧化氯是一种强效、广谱、安、快速、、持续时间长、贮存与使用方便的杀菌消毒剂，卫生组织（WHO）将其列为安的消毒剂（A1）级，美环境保护署（EPA）和美食品药物管理局（FDA）批准它可以用于医院、食品加工等部门

详细操作说明

1．把本体设备管道正确连接安装好。

2.将水溶液与HCL溶液配置于溶液箱内，打开原水进水阀，启动微电脑控制仪,把温度设置在40-55度之间(温度设置本在出前已调整好。具体详见电器说明书，)

3.打开原水进水阀,打开二氧化氯出药阀, 关闭HCL箱吸真空阀。 同时启动和HCL计量泵，根据出药量调动计量泵工作频率。

4.把微电脑控制仪设置在即可(详见电器说明书)。

5.关机时应提前一小时关闭计量泵,停止加料,使水射器将设备中的体尽量抽完,以防止滞后所产生的体外溢,停料1小时后关闭原水进水阀。

我司发生器到目前已三代产品，各自点如下：

I代：由供料系统、反应系统、温控系统、吸收系统、安缓冲系统、曝系统组成。
点：，工作稳定性高，可以动力。
不足：采用人工调节流量计，二原料的投加精度不高，二氧化氯产出量不稳定，因没液位传感器，当一个原料缺料后，发生器会法正常工作。
II代：在I代的功能基础上，加入液位传感器，实现了缺料停机保护，同时用计量泵代替了传感器流量计，使二种原料投加更。
不足：因功能的增加，电路较复杂，因设备新处环境不同，空中常腐蚀性体，电元件选用的是普通低压电元件；则体积大，设备的密封和散热问题不好解决，在这种环境下电常出问题，影响发生器的正常工作。

III代：在II代产品基础上，大规模集成电路和性的触摸屏结构，增强了产品的可靠性，并实现了真正意义的。

    二氧化氯可化PH3-9范围内效地杀灭细菌，而ye氯或次氯酸盐类杀生剂只在中性，或酸性条件下能效地杀灭细菌。因此在循环冷却水碱性环境中，比lv或次氯酸盐杀生效果好，二氧化氯用作循环冷却不杀生剂，具药效持续时间长，受氨影响小，比lv杀生效果好，对于化肥冷却水泄漏氨的情况下使用，其性能更为，二氧化氯在水中126小时，仍具很强的杀菌能力。

根河市中小型二氧化氯发生器设备技术

设备使用及操作： 

1、设备使用前应检查的事项： 

1）打开动力水阀门，将水压按要求调至稳定状态。

2）检查设备各部件是否正常，泄漏。

3）检查各阀门开关位置是否准确。

4）检查安阀，将安塞塞紧。

5）给加热水套加满水。

6）初次使用时先给反应器加水至液压管1/3处。

7）打开控制器开关，观察计量泵和温度显示是否正常。

8）检查二个原料贮存罐是否料，原料过滤器是否畅通。

2、设备： 

1）开启温控器电源，使温度升至设定温度。 

2）打开动力水阀门，将水压按要求调至稳定状态，观察反应室液位管高度以不低于1/3，在1/2处为状态，使水射器正常工作，启动计量泵，如果计量泵管道中空应先除空，然后调节计量泵频率，使之达到所需流量，设备即可正常。 

二氧化氯发生器的主要特点？
  ⑴设备外部，，占地少、。
  ⑵操作维护简便，设备没复杂的工艺流程和操作程序，只要按规定开衷情或关闭几个阀门。设备一经开启，就处于工作状态，只要间断地检查设备情况，按时添加原料，不需人员长时专门值守。
  ⑶设备配温度、原料桶、缺料保持提示装置；
  ⑷安性能好：具缺药、缺水自动报警功能，并能实现自动停机。
  ⑸设备是在负压状态下曝反应，封闭，产生的二氧化lv体被水吸收，不会向空中弥漫、泄露，因此站内没异味。室内整洁，*，也不影响人员健康。
  ⑹低，该设备不需要动力电，用自来水作动力，以氯酸盐和盐酸作反应原料，每吨自来水消毒仅为4厘钱左右。
  ⑺设备，故障率低，。

详细操作说明
1．把本体设备管道正确连接安装好。
2.将LV酸钠水溶液与盐酸溶液配置于溶液箱内，打开原水进水阀，启动微电脑控制仪,把温度设置在40-55度之间（温度设置本在出前已调整好。具体详见电器说明书，）
3.打开原水进水阀,打开二氧化LV出药阀, 关闭盐酸箱吸真空阀。 同时启动LV酸钠和盐酸计量泵，根据出药量调动计量泵工作频率。
4.把微电脑控制仪设置在即可（详见电器说明书）。
5.关机时应提前一小时关闭计量泵,停止加料,使水射器将设备中的体尽量抽完,以防止滞后所产生的体外溢,停料1小时后关闭原水进水阀。 

设备清洗

设备主机下部污口,可进行清洗污,清洗时在水射器正常工作状态下,打开反应室放空阀,关闭反应室空阀,打开反应室反冲洗阀,约半小时即可,然后关闭反应室放空阀,关闭反应室反冲洗阀,打开反应室空阀,关闭原水进水阀。
注意：正常情况下,应该每月清洗一次。  
注意事项
1.LV酸钠和盐酸应分开单独存放。
2.LV酸钠应放在干燥、通风、避光处,严禁与易燃物品混放,严禁挤压、碰撞,LV酸钠应符合GB1618-1995工业用LV酸钠的要求。
3.盐酸浓度为30%左右,应符合G320-93工业合成盐酸的要求,严禁使用废酸。
4.应注意经常清洗原料罐下部的沉淀物,防止堵塞计量泵。

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