智能型HMDS涂胶机，自动HMDS涂胶镀膜机

智能型HMDS涂胶机，自动HMDS涂胶镀膜机用途
 也称为HMDS处理，是用于使晶片表面呈疏水性的处理。

光刻胶的显影液为水溶液时(使用正型光刻胶等时)，必须进行处理。 HMDS是六甲基二硅氮烷的简称，它是通过以下反应使甲基(―CH3 )结合在硅晶片表面的物质。 该化学式左边的ho–Si≡被称为硅烷醇基，存在于si的氧化物( SiO2)的表面，使表面呈亲水性。 在大气中，在Si的结晶表面通常也会自然地生成氧化膜，所以在Si晶片的表面仍然存在该硅烷醇基。 因此，可以认为在HMDS和硅晶片之间一定会发生这种反应。 晶片表面的两个硅烷醇基反应一个HMDS，其结果是硅烷醇基被甲基这种疏水性伞覆盖，因此整个Si晶片表面变为疏水性性质。 另外，该反应会产生NH3 (氨)。 当然，对于没有硅烷醇基的表面，不能通过HMDS进行疏水化。 那么，存在硅烷醇基的表面(例如带有自然氧化膜的Si晶片或CVD膜的表面)是亲水性的，因此使用以水为主要成分的显影液(例如正型抗蚀剂用的显影液)时，显影液容易浸入与晶片表面抗蚀剂之间。 由此，产生显影时抗蚀剂的图案剥离的问题。 HMDS处理的作用在于将晶片表面疏水化，防止显影液的浸入。 这样，抗蚀剂难以剥离，因此有时也被称为“HMDS处理会改善抗蚀剂的密合性”。

智能型HMDS涂胶机，自动HMDS涂胶镀膜机技术参数

内腔尺寸：300×300×300、450×450×450、550×550×600（mm）， 可定制

材质 ：内箱采用316L医用级不锈钢，外箱采用冷轧板喷塑或不锈钢，

温度使用范围：80-200℃

温度分辨率：0.1℃

温度波动度：≤±0.5

真空度：≤100pa（1torr）

时间设置：精度1S

洁净度: 设备采用无尘材料，适用100级光刻间净化环境

电源及总功率: AC 220V±10% / 50HZ    

控制仪表: 人机界面

搁板层数: 一、二层

HMDS控制：可控制HMDS药液添加量

真空泵： 无油涡旋真空泵（多种可选）
保护功能：温度与程序锁定功能，HMDS泄漏报警功能，气体管路预热功能，储液罐低液位提示功能，自动加液功能等。