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半导体工业对清洁水的电导率、离子含量、TOC、DO+和颗粒物的要求越来越严格。由于超纯水在许多指标上对半导体的要求很高,因此半导体行业的超纯水与其他行业的用水要求不同。半导体行业对超纯水有极其严格的水质要求。
半导体工业是超纯水应用的主要产业之一。在半导体加工过程中,需要用水进行处理。水质要求较高,不含任何离子杂质。半导体超纯水设备可以有效去除水中杂质,保证设备出水水质。莱特莱德采用双反+EDI+Huncotte系统组合工艺,出水可达18.2mΩ·cm。
反渗透系统采用反渗透原理,主要去除溶解盐、有机物、胶体、高分子等,降低水质离子含量。EDI是结合离子交换膜技术和离子电迁移技术的纯水制造技术。它不需要酸碱再生。这是一种新的脱盐方法。EDI无需回收化学品,运行成本低,EDI超纯水系统自动化程度高,可实现连续运行,出水水质良好稳定,出水电阻率高≥ 15mΩ·cm。Huncotte系统用于高纯水处理系统的末端净化器。可将水中离子含量降至ppb级,出水电阻率可达18.2mΩ·cm。为半导体带来更好的性能优势。
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