磁悬浮天平高压吸附仪

·XEMIS可作为一个独立的天平使用

·所包含Hiden Isochema控制软件，能记录动力学数据与吸附性能，也可以与客户现有的气体输送系统联用。

·可配备吸附研究的自动化气体输送系统，从而转为全自动吸附仪使用。

·在一个温度范围内，可以对不同的吸附物进行多个等温线编程和自动测量。

·无需重新归零或原位校准

·全金属结构由高品质的VCR装配

·模块化设计，与所有配件兼容且可升级

·单独的反应器可进行从77 K到773 K的全温度范围测量

·设计的微量天平横梁安置在由金属VCR密封的低容室内

·对称设计的流量和浮力补偿

·用于腐蚀性气体测量时与其它磁悬浮天平所测试的气体和蒸气兼容

·操作压力：      200bar，

·大容量微量天平：   5g

·分辨率：               0.2μg

·长期稳定性：        ±5μg

·宽动态称量范围：  0-200mg