徕卡DM4M和DM6M在材料科学分析领域的应用
徕卡工业测量正置显微镜Leica DM4 M 手动工业测量显微镜 和 Leica DM6 M 全自动工业检查显微镜在材料科学与分析领域中对许多样品进行成像、测量分析是理想的选择.
产品详情
徕卡正置显微镜DM6 M LIBS
实现快速精确材料分析的二合一系统
DM6 M LIBS 的集成激光光谱功能可在一秒钟内提供在显微镜图像中所观察微观结构的化学成分。
识别感兴趣的微观结构成分,随后只需单击一下,即可触发 LIBS 分析。
优势概览
与典型的电镜方法*相比,节省 90% 的时间,而且
以可靠的目视和化学检验材料信息为基础,快速做出自信的决策。
*可根据要求提供证明
无需 SEM 样品制备
为什么使用 DM6 M LIBS 解决方案进行材料分析能节省 90% 的时间?因为这种解决方案:
无需样品制备和转移;
无需系统调节;且
无需重新定位感兴趣区域 (ROI)。
减少工作流程
将工作流程精简至只有一个步骤,以结果为重点。
组件清洁度分析
DM6 M LIBS 二合一系统与 Cleanliness Expert 分析软件相结合,让您仅使用一台仪器和一个工作流程即可对过滤器上的样品进行目视和化学检验。
这样可以更轻松地找到污染源。
做出自信的决策
通过快速获取颗粒成分和结构的数据,您将得到在分析过程中更加迅速地做出自信决策的优势。
微观结构成分的评估
DM6 M LIBS 二合一解决方案可助您执行物相的结构和元素/化学分析,例如矿石、合金、陶瓷等。
无需进行样品制备,也无需在 2 个或更多设备之间进行转移。整个分析工作流程全部在一台仪器上完成。
减少占用人力资源的样品制备
减少占用人力资源的样品制备和成本高昂的 SEM/EDS 分析,从而节省时间和资金。
徕卡工业测量正置显微镜Leica DM4 M 手动工业测量显微镜 和 Leica DM6 M 全自动工业检查显微镜在材料科学与分析领域中对许多样品进行成像、测量分析是理想的选择.
徕卡公司针对微电子和半导体行业的检验、流程控制或缺陷和故障分析的应用特点,可提供不同需求的个化性化解决方案。
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