产品详情
SRS-500型磁控溅射PVD系统,最多可配备五个独立溅射靶位,采用涡轮分子泵组和自动压控系统等配置,适用于沉积各种金属和反应膜层。可实现单靶直溅和多靶共溅功能。适合快速制备多层金属、反应化合膜、半导体介质复合膜等,配备精密沉积速率控制系统,非常适合新材料研发和小批量生产使用。
主要特点:
应用领域:
主要功能配置说明:
系统外观图如下:
腔室结构图如下:
四靶位溅射+2个独立热蒸发单元
五个独立溅射靶位腔室结构图
转架结构图:
外形尺寸图:
*您想获取产品的资料:
个人信息: