材料物理&材料制备系列DH-500JJC型多靶磁控溅射镀膜机-镀膜机

产品详情

该镀膜机主要用于科研实验，可制备纳米级和微米级的单层及多层功能膜-各种硬质膜、光学膜、金属膜、铁磁薄膜、半导体膜、介质膜和氧化物薄膜等多种薄膜。

　　该镀膜机为前开门式设计，功能强、镀膜质量稳定、重复性好、操作简便。真空室材料均采用优良材质SUS304 不锈钢材料制造，工艺规范、精致，保证了材料的成膜纯度。

采用分子泵+直联机械泵机组，具有抽速快、无油、操作方便快捷、易于维护的特点。

◆ 镀膜方式：可实现多靶共溅模式；

◆ 磁控靶：圆柱/平面靶；

◆ 进气系统：三路质量流量计；

◆ 镀膜室体积：500mmX500mmX600mm；

◆ 极限真空度：5X10-5 Pa，恢复真空：从大气抽至6.7X10-4 Pa （40分钟）；

◆ 真空抽气系统：机械泵与分子泵组成；

◆ 真空测量系统：数显复合真空计；

◆ 工作电源：直流电源500W；射频电源500W（13.56MHz）；加热控温电源；

◆ 工件烘烤温度：室温～800℃可控可调(PID控温)；

◆ 选配件：石英晶振测厚仪、冷却水机组等；

◆ 供电电源：三相AC380V，50Hz。

◆特殊规格可定制。

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