工业显微镜 LV100ND/LV100DA-U

新的光学系统令 ECLIPSE焕发新风采

  ECLIPSE 显微镜机身采用模块化制造，可满足多领域的工业应用，其中包括半导体器件、封装、FPD、电子器件、材料和精密模具制造等。ECLIPSE LV 系列经过不断的发展完善并配备了新的光学系统和功能，可根据观察方法和目的 选择支架装置和照明装置以满足多种观察需求。用户可选择使用电动和手动操控模式以及反射照明专用模式和反射／透射组合照明模式以满足任何应用需求。

 

CFI60-2 经过改进的光学性能 

    以的高数值孔径和长工作距离设计理念而著称的尼康 CFI60 光学系统经过进一步改进，具有较的长工作距离、色差校正性能和更轻的重量。 

轻松的操作与数码相机集成

   现可使用数码控制装置来检测包括物镜信息在内的显微镜信息，以及对显微镜进行电动操作，以更高效地进行观察和图像拍摄。

观察方法 

   可支持多种观察方法：明场、暗场、偏光、微分干涉、落射荧光和双光束干涉测量观察功能。此外，LV100DA和LV100DA-U还可提供透射型微分干涉、暗场、偏光和相衬观察功能。