MA3000大平台工业显微镜

仪器适用范围：

伴随着半导体工业的发展，我国半导体圆晶生产已从较小的尺寸发展到现在的8英寸（200mm），MA3000就是为了适应大芯片检测而开发的新产品。MA3000配备反射照明光学系统，反射式暗场和偏光系统，使它可用在相同尺寸的半导体掩模板，液晶基板或其它平面显示器及各种工业器件的检验场合。

仪器特性：

1. l 200mmX200mm带快速离合器大行程载物台
2. l 视场数∮22mm无限远校正像差超长工作距离平场消色差物镜
3. l 落射光明场、暗场及偏光可快速转换
4. l 机架经计算机《有限元》分析处理，有高稳定性及抗振性
5. l 轴承钢淬火后精密加工的滚柱导轨，使仪器具有稳定的使用精度及高的可靠性
6. l 采用人机工程学的设计理念，调焦手轮前置，使之操作舒适。

高质量的光学系统，确保仪器在对各试样检验时均能获得良好的成像质量。

无限远校正像差长距平场消色差物镜

MA3000配用了本公司开发的视场数 22mm无限远校正像差超长工作距离平场消色差系列物镜。对各种被检测的试样均能获得优良的成像质量。物镜的超长工作距离，可避免物镜与试样相碰而损伤试样或物镜

在反射照明光路中，明场、暗场和偏光可快速转换

MA3000配有明场和暗场共用的物镜，只要拉动拉杆，即可明场暗场转换；只需插入或拉出起偏器和检偏器，即可偏光转换，操作十分方便。

采用完善的柯拉照明系统

MA3000采用完善的柯拉照明系统，在整个视场内照明均匀。