PHI 5000 Versaprobe II X射线光电子能谱仪

PHI 5000 Versaprobe II X射线光电子能谱仪是材料科学和发展的领域中zui广泛使用的表面分析技术。其原理是利用X射线束（一般会使铝阳极或镁阳极）作为入射源，照射在样品表面导致让光电子从原子的核心层被激发出。根据测得的光电子所发出的电子动能，再依照能量守恒定律就可以知道电子的结合能，从而也就可知道样品表面是何物质。
PHI 5000 Versaprobe II X射线光电子能谱仪能提供高性能的微区光谱，化学成像，二次电子成像，其zui小的X射线束光栅扫描直径约为10微米。X射线束的大小可以轻易的使用电脑控制在直径10微米到400微米设定，从而达到的空间解释度与zui高的灵敏度。VP-II 可以轻易的对不管是导体或非导体获取化学态的成像 或是离子溅射的深度分析，样品例子如催化剂，金属和电子设备，玻璃和聚合物，甚至是生物材料和组织等等。
维持了核心能力，包括扫描和聚焦 X 射线，的离子与电子双中和系统，以及可以在极低电压也可工作的高效能离子枪；另有可选项配置C60离子枪，提供了许多有机材料而强大的溅射深度剖析能力；另外，一个自动化的五轴样品操盘促进多个样品的自动分析并提供Zalar旋转“Zalar RotationTM”的能力，可配合氩气离子束或可选项配置的C60来进行溅射深度剖析。zui后，全新的操作界面SMARTSOFT-XPS，提供多技术仪器控制一个易于使用的平台。在数据解释和操纵总结中，对VP-II 的性能有着明显的提高。